解读根管再治疗:根管充填困境

来源:网络 时间:2025/3/3

解读根管再治疗根管充填困境

原标题:Re-treatment Decoding : obturation dilemma

每一例根管治疗失败都有其原因。当面对非手术再治疗时,临床医生必须清楚失败的原因,以便以可预测的方式处理这类病例,降低再次失败的风险。

影响非手术再治疗最关键的因素之一是根尖封闭、根管充填材料以及充填方式,每种情况都需要针对不同解剖条件制定最优方案。


图1

患者主诉上颌第一磨牙咀嚼不适。我们首先拍摄了术前 X 光片,以便正确诊断,并发现了以下情况:

1. 冠部封闭不良

2. 近中根管系统充填欠充,且伴有根尖周病变。

3. 远中牙根充填欠充。

4. 腭侧根管因根尖钝圆且封闭不当,存在根尖周病变。



图2

明确失败原因后,我们需要以可预测的方式进行再治疗,以实现长期的成功治疗效果。首先去除原有根充材料,并使用合适的国际标准化组织(ISO)标准和锥度对根管系统进行预备,以达到充分清洁的目的。

近中根管系统显示有2mm以内的牙胶尖超充,且为MB1和MB2融合的Ⅱ型根管解剖结构。

远中根管系统显示主尖与工作长度适配良好。

至于腭侧根管,在去除先前的充填材料后,放置了一支 40 号、锥度为 0.04 的牙胶尖。我们选择使用矿物三氧化物凝聚体(MTA)根尖屏障技术来实现良好的封闭。



图3

使用一支定制的、比腭侧根管工作长度短 2 毫米的牙胶尖作为充填器,以确保 MTA 的充填效果。

通常会使用牙髓冷却剂(Endo ice)使牙胶尖变硬,以便在根尖部分轻松地进行 MTA 的充填。



图4

在放置根尖屏障后立即拍摄了 X 光片,结果显示在根尖最后 3 毫米处的 MTA 根尖屏障已妥善完成(使用了 Map 系统的红色编码尖端和定制牙胶尖)。

在这段视频中,我们逐步展示了与每个根管相关的充填技术。凭借合适的器械和丰富的知识,实现可行且可重复的根管充填是完全可能的。

近中根管系统和远中根管系统均使用了基于树脂的封闭剂,并采用了垂直加压(WVC)技术进行充填,而腭侧根管则先放置了 MTA 根尖屏障,随后进行了热牙胶充填。


图5

术后 X 光片显示根管充填良好,与工作长度适配,且冠部封闭已完成,为根管治疗后的修复做好了准备。

结论

牙髓再治疗主要基于策略制定。术前对病例进行评估,同时充分了解不同的充填材料和根管解剖结构,并配备合适的器械,如 Map 系统、手术显微镜和垂直加压设备,将有助于提高再治疗的成功率。

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作者:Mohamed Abdelkhalek

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